真空等离子处理仪VP-R5采用低温真空石英腔体等离子清洗装置技术，腔体石英玻璃材质，容积5升，工作气路2路，中英文触摸屏操作控制，射频频率13.56MHz，射频功率160W，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
3细节把控，给用户更好体验
配备高精度泄压阀，泄压时长、速度可调，确保小颗粒或粉末样品不被吹散
真空泵与主机联动，可在触摸屏控制真空泵开启/关闭
1. 5米不锈钢波纹管，比橡胶管更耐用，密封性更好
配备的真空泵噪音和油气污染小，真空度高
石英材质 真空腔体不与等离子体产生反应，不会污染样品
安捷伦Agilent干泵 (选配)，避免油气污染
OF - 20油污过滤器(选配)，避免排气口油气对实验室环境的污染
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