离子溅射仪(TMP+RP)

   日期:2021-12-10 17:21:07     浏览:36    
核心提示:VE-2012离子溅射仪(TMP+RP)是继承了VE- 2030(弊公司制造)的概念的简易型真空蒸镀装置。机箱内集成了TMP,外形小巧。因为是台式机型,所以不占用安装场所。将RP置于地板上。通过小型TMP+RP的排气系统,以低价提供清洁高真空的蒸镀装置。无需复杂的排气操作,只需开关ON/OFF的简单操作系统。使用钨篮可以蒸镀金、铝、铬、银

VE-2012离子溅射仪(TMP+RP)是继承了VE- 2030(弊公司制造)的概念的简易型真空蒸镀装置。机箱内集成了TMP,外形小巧。因为是台式机型,所以不占用安装场所。将RP置于地板上。通过小型TMP+RP的排气系统,以低价提供清洁高真空的蒸镀装置。无需复杂的排气操作,只需开关ON/OFF的简单操作系统。使用钨篮可以蒸镀金、铝、铬、银等。

 

VE-2012离子溅射仪(TMP+RP)使用用自动铅笔型替换芯作为碳蒸镀的夹紧蒸镀枪型。(φ 5mm碳棒不能使用。)购买时,选择碳燕镀电极或金属蒸镀电极。根据选择,可以追加购买电极。


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